膜厚測(cè)試儀韓國(guó)XRF-2000測(cè)厚儀的詳細(xì)資料:
膜厚測(cè)試儀韓國(guó)XRF-2000測(cè)厚儀
快速無(wú)損測(cè)量電鍍層厚度
原產(chǎn)地:韓國(guó)
儀器型號(hào):XRF-2020/XRF-2000
品牌:Micropioneer 微先鋒
性能及特點(diǎn):快速無(wú)損檢測(cè),機(jī)器全自動(dòng)大平臺(tái)測(cè)試臺(tái)面
儀器規(guī)格
XRF-2020L型:測(cè)量樣品長(zhǎng)寬55cm,高3cm:臺(tái)面載重3kg
XRF-2020H型:測(cè)量樣品長(zhǎng)寬55cm,高12cm:臺(tái)載重5kg
儀器全自動(dòng)臺(tái)面,自動(dòng)雷射對(duì)焦,多點(diǎn)自動(dòng)測(cè)量
多個(gè)準(zhǔn)直器可選擇:0.1mm,0.2mm,0.3mm,0.4mm,0.03*0.5mm
可配多個(gè)或單個(gè)準(zhǔn)直器,準(zhǔn)直器大小可自動(dòng)切換
Microp XRF-2020測(cè)厚儀(韓國(guó)微先鋒)
快速無(wú)損測(cè)量鍍金,鍍銀,鍍錫,鍍銀,鍍鎳,鍍銅,鍍鋅鎳合金等!
測(cè)量原理:
物質(zhì)經(jīng)X射線或粒子射線照射后,由于吸收多余的能量而變成不穩(wěn)定的狀態(tài)。從不穩(wěn)定狀態(tài)要回到穩(wěn)定狀態(tài),此物質(zhì)必需將多余的能量釋放出來(lái),而此時(shí)是以熒光或光的形態(tài)被釋放出來(lái)。熒光X射線鍍層厚度測(cè)量?jī)x或成分分析儀的原理就是測(cè)量這被釋放出來(lái)的熒光的能量及強(qiáng)度,來(lái)進(jìn)行定性和定量分析。
設(shè)備用途:檢測(cè)電子電鍍化學(xué)鍍層厚度:如測(cè)理鍍金,鍍銀,鍍銀,鍍錫,鍍鋅,鍍鋅鎳合金等!
測(cè)量范圍:0.02-35um
測(cè)量精度:正負(fù)5%以?xún)?nèi)
測(cè)量元素范圍:Ti-U
準(zhǔn)直器大小可選:0.1mm,0.2mm,0.3mm.0.4mm,方型:0.05X0.3mm
可測(cè)單鍍層,雙鍍層,合金鍍層
膜厚測(cè)試儀韓國(guó)XRF-2000測(cè)厚儀
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