X射線膜厚測量儀XRF-2000L型的詳細(xì)資料:
X射線膜厚測量儀XRF-2000L型
韓國MicroP XRF-2020
應(yīng)用:
1. 采用X射線熒光光譜法無損測量金屬鍍層厚度,單鍍層,雙鍍層,多鍍層及合金鍍層不限基材!
1. 鍍層元素范圍:鈦~鈾,包含常見的金、鎳、銅、銀、錫、鋅、金,鉻,鋅鎳合金等。
2. 鍍層層數(shù):可測5層。
3. 測量產(chǎn)品位置尺寸:標(biāo)準(zhǔn)配備0.2mm準(zhǔn)直器,測量產(chǎn)品大于0.4mm(可訂制更小準(zhǔn)直器)
4. 測量時(shí)間:15秒。
5. 測量誤差:小于5%,視樣品具體情況而定。
6. 可測厚度范圍:0.02微米到50微米,視樣品組成和鍍層結(jié)構(gòu)而定。
X射線熒光鍍層測厚儀無損膜厚儀
儀器規(guī)格
XRF-2020L型:測量樣品長寬55cm,高3cm:臺面載重3kg
XRF-2020H型:測量樣品長寬55cm,高10cm:臺載重5kg
儀器全自動(dòng)臺面,自動(dòng)雷射對焦,多點(diǎn)自動(dòng)測量
多個(gè)準(zhǔn)直器可選擇:0.1mm,0.2mm,0.3mm,0.4mm,0.03*0.5mm
可配多個(gè)或單個(gè)準(zhǔn)直器,準(zhǔn)直器大小可自動(dòng)切換
Microp XRF-2020測厚儀(韓國微先鋒)
快速無損測量鍍金,鍍銀,鍍錫,鍍銀,鍍鎳,鍍銅,鍍鋅鎳合金等!
測量原理:
物質(zhì)經(jīng)X射線或粒子射線照射后,由于吸收多余的能量而變成不穩(wěn)定的狀態(tài)。從不穩(wěn)定狀態(tài)要回到穩(wěn)定狀態(tài),此物質(zhì)必需將多余的能量釋放出來,而此時(shí)是以熒光或光的形態(tài)被釋放出來。熒光X射線鍍層厚度測量儀或成分分析儀的原理就是測量這被釋放出來的熒光的能量及強(qiáng)度,來進(jìn)行定性和定量分析。
測試范圍
鍍金:0.02-6um
鍍鈀:0.03-6um
鍍鎳:0.5-30um
鍍錫:0.3-50um
鍍銀:0.1-50um
鍍鉻:0.5-30um
鍍鋅:0.5-30um
鍍鋅鎳合金:0.5-30um
X射線膜厚測量儀XRF-2000L型號已升級為XRF-2020
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